企业等级: | 普通会员 |
经营模式: | 生产加工 |
所在地区: | 江苏 苏州 |
联系卖家: | 孟先生 先生 |
手机号码: | 15190025037 |
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公司地址: | 苏州市吴中区国家环保产业园 |
发布时间:2022-07-09 19:01:00 作者:振鑫焱光伏科技
半导体器件生产中硅片须经严格清洗。微量污染也会导致器件失效。清洗的目的在于清除表面污染杂质,包括有机物和无机物。这些杂质有的以原子状态或离
子状态,有的以薄膜形式或颗粒形式存在于硅片表面。有机污染包括光刻胶、***残留物、合成蜡和人接触器件、工具、器皿带来的油脂或纤维。无机污染包括
重金属金、铜、铁、铬等,严重影响少数载流子寿命和表面电导;碱金属如钠等,引起严重漏电;颗粒污染包括硅渣、尘埃、细菌、微生物、有机胶体纤维等,会导
致各种缺陷。清除污染的方法有物理清洗和化学清洗两种。
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硅生产原料在化学用硅生产上,原料是实现良好作业的先决条件。用石英的岩石作生产化学金属硅的原料,低灰分的含碳材料作还原剂。电炉法生产化学用硅的原料主要有硅石和碳素原料。碳素原料又以石油焦为主,有的煤或木炭,也可以掺用一部分,以增加炉料比电阻。硅矿物冶炼金属硅的过程是无渣过程,化学硅冶炼对硅石的选用较严格,不仅杂质含量要少,还要求有高的机械强度、足够的热稳定性,适宜的粒度组成。
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