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磨的结构1）辊轮和衬板之间的间隙，可根据所需物料粉磨细度进行调节；2）储料筒可利用上下调节来调整物料在磨内碾磨次数和料层厚度，控制物料出料速度和碾磨程度；3）弹簧可根据物料硬度进行压力调整。

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生产商必须平衡这些相关的因素使生产力达到大化。更高的切割速度和更大的荷载将会加大切割切割线的拉力，增加切割线断裂的风险。由于同一硅块上所

有硅片是同时被切割的，只要有一条切割线断裂，所有部分切割的硅片都不得不丢弃。

然而，使用更粗更牢固的切割线也并不可取，这会减少每次切割所生产的硅片数量，并增加硅原料的消耗量。       

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硅片物理清洗有三种方法。①刷洗或擦洗:可除去颗粒污染和大多数粘在片子上的薄膜。②高压清洗：是用液体喷射片子表面，喷嘴的压力高达几百个大气

压。高压清洗靠喷射作用，片子不易产生划痕和损伤。但高压喷射会产生静电作用，靠调节喷嘴到片子的距离、角度或加入防静电剂加以避免。③超声波清洗：超声

波声能传入溶液,靠气蚀作用洗掉片子上的污染。但是,从有图形的片子上除去小于 1微米颗粒则比较困难。将频率提高到超高频频段，清洗效果更好。         

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