单晶硅发电板光伏板回收采购收购***「振鑫焱光伏科技」

电池片的检验

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背电场：

A 级：

背电场完整，厚薄均匀，允许有缺失，缺失面积不超过背电场总面积的 5% ，变色面积不超过背电场面积的 15% 。

新的标准：背电场完整，厚薄均匀，不允许有缺失

B 级：

允许有缺失，缺失面积不超过背电场总面积的 10% ，变色面积不超过背电场面积的 30% 。

新的标准：允许有缺失，缺失面积不超过背电场总面积的 5% ，变色面积不超过背电场面积的 15% 。

C 级：

允许有缺失，缺失面积不超过背电场总面积的 10% ，变色面积不超过背电场面积的 50% 。

新的标准：缺失面积不超过背电场总面积的 5% ，变色面积不超过背电场面积的 50% 。

粗点：

粗点宽度≤ 0.18mm ，个数小于 2 个

新的标准：不允许有粗点

粗点宽度≤ 0.25mm ，个数小于 5 个

新的标准：允许有粗点，粗点宽度≤ 0.18mm ，个数小于 2 个

粗点宽度≤ 0.3mm ，个数小于 8 个

新的标准：当主栅线或副栅线有明显粗细不均时，应用刻度显微镜进行查检。

电池片的制作工艺

PECVD

PE 目的

在硅片表面沉积一层氮化硅减反射膜，以增加入射在硅片上的光的透射，减少反射，氢原子搀杂在氮化硅中附加了氢的钝化作用。

其化学反应可以简单写成 ： SiH 4 +NH 3 =SiN:H+3H 2 。

基本 原理

PECVD 技术原理是利用低温等离子体作能量源，样品置于低气压下辉光放电的阴极上，利用辉光放电（或另加发热体）使样品升温到预定的温度，然后通入适量的反应气体，气体经一系列化学反应和等离子体反应，在样品表面形成固态薄膜。 PECVD 方法区别于其它 CVD 方法的特点在于等离子体中含有大量高能量的电子，它们可以提供化学气相沉积过程所需的***能。电子与气相分子的碰撞可以促进气体分子的分解、化合、激发和电离过程，生成活性很高的各种化学基团，因而显著降低 CVD 薄膜沉积的温度范围，使得原来需要在高温下才能进行的 CVD 过程得以在低温下实现。  

基本特征

1. 薄膜沉积工艺的低温化（ < 450 ℃ ）。

2. 节省能源，降低成本。

3. 提高产能。

4. 减少了高温导致的硅片中少子寿命衰减。

扩散方式

PE 设备有两类：平板式和管式。

按反应方式分为：直接式（岛津）和间接式（ Roth ＆ Rau  ）。

直接式：基片位于一个电极上，直接接触等离子体。  

间接式：基片不接触激发电极。 在微波激发等离子的设备里，等离子产生在反应腔之外，然后由石英管导入反应腔中。在这种设备里微波只激发 NH3 ，而 SiH4 直接进入反应腔。间接 PECVD 的沉积速率比直接的要高很多，这对大规模生产尤其重要。

回收***拍卖太阳能光伏板回收海关罚没太阳能光伏板

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电池片丝网印刷技术

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电池片丝网印刷技术

印刷厚度：丝网和感光膜的厚度决定印刷后图形的厚度即线条的厚度，如图 10 所示，在一般情况下，丝网目数越低，丝经越粗，印刷后的浆料层就越高，所用丝网目数较高时，印刷后浆料层就低一些。感光膜的厚度与丝网目数和线条的宽度有关：目数越高，丝径越细，感光膜与丝网的接触面积越小，二者的附着力减小，

果印刷线条变窄，增加感光膜的厚度易造成脱落，所以感光膜较薄，感光膜的厚度约为丝网厚度的 15 ％～ 25 ％；对于背铝和背银工序，选取250 目丝网，其厚度为 58um，感光膜厚度为 10 ～ 15um ，则印后厚度为 68 ～ 73μm ，这里计算出来的厚度时浆料的湿厚度（ wetthickness ）．需经过烘干（ dry ）和烧结（ fire ）才是终厚度（干厚度），干厚度是湿厚度的 30% ～ 40% ；对于正银工序，选取 330 目丝网，其厚度为 44um ，感光膜厚度为 5 ～ 10μm ，则印后湿厚度约为 49 ～ 54μm 。  

选择丝网丝径及目数时，要求网格的孔长为浆料粉体粒径的 2.5 ～ 5 倍；目数越低丝网越稀疏，网孔越大，油墨通过性就越好；网孔越小，油墨通过性越差，如图 9 所示。  

网框 ：网框大多采用硬铝及铝合金以承受绷网所产生的力，连接丝网的底面需要较高的平面度，约为 0.04mm × 150mm × 150mm ; 网框规格一般为承印物的 2 倍：以 150mm 电池片为例，承印物面积为

150mm × 150mm ，网框内口的面积应为300mm × 300mm  。