| 企业等级: | 普通会员 |
| 经营模式: | 生产加工 |
| 所在地区: | 江苏 苏州 |
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发布时间:2022-04-14 11:50:00 作者:振鑫焱光伏科技





电池片的检验
振鑫焱光伏科技有限责任公司长期购置:天价回收硅片,电池片,初中级多晶硅,银浆布,单晶硅,多晶硅,太阳电池,太阳能组件,太阳能光伏板,顾客撤离,退级,库存量,El,欠佳检测,2手,旧,工程项目,拆装,道路路灯,拆卸发电厂,拆装,人造板,层压板,无界限结晶硅,多晶硅,单晶硅,试验板,负债还款,返修,太阳能发电控制模块收购等。
四、色调偏色
***
1、多晶硅片:单个充电电池的色调匀称相同,色调的范畴从深蓝色刚开始,经暗蓝色、鲜红色、棕褐色、到深褐色中间容许相仿色的偏色(深蓝色和暗蓝色存有单个充电电池上,但不容许跳色),行为主体色调为暗蓝色,单个充电电池容许二种色调。2、多晶硅电池片:同一整片电池片色调匀称相同,色调范畴中沒有深褐色,别的同多晶***的辨别。新的规范:片式上匀称相同的不一样色调的电池片,依照淡蓝色、深蓝色、鲜红色几种开展归类。
B级
1、多晶硅片:单个充电电池色调不匀称,容许存有跳色偏色,数跳1个相仿色(比如:鲜红色和深褐色存有于单个充电电池上),行为主体色调为深蓝色-鲜红色范畴,单个充电电池个容许存有几种色调。
2、多晶硅电池片:与多晶电池片对比,只少了行为主体色调,别的同多晶B级的辨别。新的规范:与旧规范同样
C级
1.多晶硅片:同一整片充电电池容许色调不匀称(深蓝色-暗蓝色-鲜红色-棕褐色-深褐色)容许存有跳色偏色,以电池片上能够有≥2个相仿色。
2.多晶硅电池片:与多晶电池片对比,色调范畴中少了深褐色,其他同多晶C级的辨别。新的规范:与旧规范同样注:当片式上为匀称相同获得不一样色调,判为***,但需依照淡蓝色、深蓝色、鲜红色几种开展单测单包。
电池片的制作工艺
振鑫焱光伏科技有限公司常年采购:回收硅片,电池片,初级多晶硅,银浆布,单晶硅,多晶硅,太阳能电池,光伏组件,太阳能电池板,客户撤退,降级,库存,El,不良测试,二手,旧,工程,拆卸,路灯,拆解电站,拆卸,胶合板,层压板,无边界晶体硅,多晶硅,单晶硅,实验板,债务偿还,返工,光伏模块回收等。
影响因素
1 .频率
射频 PECVD 系统大都采用 50kHz~13.56 MHz 的工业频段射频电源。较高频率( >4MHz )沉积的氮化硅薄膜具有更好的钝化效果和稳定性。
2 .射频功率
增加 RF 功率通常会改善 SiN 膜的质量。但是,功率密度不宜过大,超过 1W/cm2 时器件会造成严重的射频损伤。
3 .衬底温度
PECVD 膜的沉积温度一般为 250 ~ 400 ℃ 。这样能保证氮化硅薄膜在HF 中有足够低的腐蚀速率,并有较低的本征压力,从而有良好的热稳定性和抗裂能力。低于 200 ℃ 下沉积的氮化硅膜,本征应力很大且为张应力,而温度高于 450 ℃ 时膜容易龟裂。
4 .气体流量
影响氮化硅膜沉积速率的主要气体是 SiH4 。为了防止富硅膜,选择NH3/SiH4=2~20 (体积比)。气体总流量直接影响沉积的均匀性。为了防止反应区下游反应气体因耗尽而降低沉积速率,通常采用较大的气体总流量,以保证沉积的均匀性。
5 .反应气体浓度
SiH4 的百分比浓度及 SiH4/NH3 流量比,对沉积速率、氮化硅膜的组分及物化性质均有重大影响。
理想 Si3N4 的 Si/N = 0.75 ,而 PECVD 沉积的氮化硅的化学计量比会随工艺不同而变化,但多为富硅膜,可写成 SiN 。因此,必须控制气体中的 SiH4 浓度,不宜过高,并采用较高的 SiN 比。除了 Si 和 N 外, PECVD 的氮化硅一般还包含一定比例的氢原子,即 SixNyHZ 或 SiNx :H 。
6 .反应压力、和反应室尺寸 等都是影响氮化硅薄膜的性能工艺参数。
电池片流程
振鑫焱光伏科技有限公司常年采购:回收硅片,电池片,初级多晶硅,银浆布,单晶硅,多晶硅,太阳能电池,光伏组件,太阳能电池板,客户撤退,降级,库存,El,不良测试,二手,旧工程,拆卸,路灯,拆解电站,拆卸,胶合板,层压板,无边界晶体硅,多晶硅,单晶硅,实验板,债务偿还,返工,光伏模块回收等。
电池片流程
1、 车间段位构成
WHQ :硅片为太阳能电池片的载体,硅片的质量决定了电池片的转换效率。而该工序则是对硅片的来料检测,主要是包括厚度, TTV ,电阻率,外观 (破片,缺角,孔洞,脏污)
需注意 :
1) 切割方向会厚薄不均,放片时需 180 度错落放置以保证放入载体厚薄均匀,切割方向需要垂直与印刷 细 栅方向,预防水波纹出现。
2) 线痕: 单线痕
密集线痕
3 )原硅片因切割后因有清洗所以会有粘度导致原硅片粘连,放置时需轻微摇晃。
制绒: 目的:去除表面损伤层,对表面进行凹凸处理 ,清楚表面硅酸钠,氧化物,油污以及金属。以提高光电转换率。
减重 ,活性不均匀会影响到后面 PEVCD 工序使硅片出现问题制绒过程中, 制绒面朝下,装入载体,载体单孔面为制绒面。在制品时间为两小时,两小时内要及时送入下一工序。
晶体硅电池片
晶体硅电池片检验方法:
2 ) 外观目测:
a. 与表面成 35 °角日常光照情况下观察表面颜色,目视颜色均匀 一致 ,无明显色差花斑、水痕、手印、划痕及污垢。
b. 隐裂:电池片有隐裂、 肉眼可见的裂纹, 均视为不合格
c. 背面铝背电极完整,表面平整 、 边界清晰 、 无明显凸起的“铝珠 , 脱落 3mm 2 / 个 ≤ 5mm 2 、鼓泡累计面积≤5mm
2 , 背面铝膜与基体材料的附着强度? 背膜烧结:用层压机 130 — 145 度,超过 10 分钟。冷却到室温后,用刀片隔开 1cm 的宽度,用大于 50N 的拉力,铅膜不随 EVA 脱落,则认为合格。
d. 受光面栅线:主栅线均匀完整,栅线印刷清晰、对称;主栅线与细栅线处允许≤ 1mm ;细栅线允许≤ 2mm 的脱落;栅线印刷偏离,明显两次印刷的返工片视为不合格;断点的总数≤ 60mm。
e. 崩边:每一边不超过两处崩边,崩边间距≥ 30mm 、深度≤ 0.5 片子厚度、面积≤ mm 2
f . 电池边缘缺角面积不超过 1mm 2 ,数量不超过 2 个。缺角:一边有一处崩边,面积≤5mm 2 ,一边由两处崩边、面积≤3mm 2
g. 电池的崩边、钝形缺口等外形缺损的尺寸要求:长度不大于 1.5mm ,由边缘向中心的深度不大于 0.5mm ,同一片电池上正面出现此类外形缺损数量不超过两处。同时不允许电池上 V 形缺口。
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